为什么中国生产不了光刻机 美国为什么不造光刻机

来源:bianji2 时间:2021-11-24 22:01 阅读

关于为什么中国生产不了光刻机这个问题,今天让我们具体的描述一下为什么中国生产不了光刻机的详细解释。

全球一共有6家企业可以制造光刻机,其中荷兰的ASML是唯一可以制造EUV光刻机的公司。上海微电子也是其中之一,目前占据了全国80%的光刻机市场份额。

近年来上海微电子不断突破技术,该公司生产的28nm光刻机即将组装下线,可以实现国内7nm芯片的自主化生产,不再高度依赖美国。本应举国庆祝,为何遭到院士的“泼冷水”呢?

为什么中国生产不了光刻机

光刻机又名掩模对准曝光机,它最核心的部件就是紫外光源,深紫外光的叫做DUV光刻机。最先进的是EUV光刻机,也就是极紫外光。市面上还在使用的光刻机只有这两种了。

世界上有6家公司掌握着光刻机制造技术,所以光刻机价格极其昂贵,通常在3千万到5亿美元。只有荷兰的ASML有能力制造EUV光刻机,可以说完全垄断了全球市场。我国只能生产低端的光刻机,之前连DUV光刻机都需要进口,而EUV光刻机在国内一台都没有。

众所周知,芯片是一种集成的微电路,作为信息社会的基础,从超级计算机到电脑手机等数码产品,都需要芯片,而光刻机就是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

为什么中国生产不了光刻机

全球的芯片大厂商,除了三星以外,其余几乎全是美国公司,所以美国对华发动贸易战,首先就是在芯片上卡中国企业的脖子。首当其冲的就是华为了,华为手机无法使用高通芯片,谷歌停止和华为合作。

而华为作为一家通信公司和手机厂商,所有业务都离不开芯片。芯片断供对华为影响不可谓不大,先是卖掉了旗下的子品牌荣耀手机,然后华为手机的出货量也在大幅度的减产,经济损失达数百亿美元。

为什么中国生产不了光刻机

根据公开消息显示,中国军工企业的核心芯片几乎都是国产化的。芯片缺口较大是在民用领域,中国虽然是工业体系最完善的大国,但是在光刻机技术方面存在明显不足,所以使用的芯片主要从国外进口。

台积电全球第一大芯片代工厂,这家公司就是利用DUV光刻机实现了7nm芯片的制造。事实上华为自己能研发高端芯片,但是没有办法实现量产。也没有任何一家高科技公司可以形成自己研发自己生产的芯片产业,美国高通也需要找台积电代加工芯片。

为什么中国生产不了光刻机

那么华为不可以找台积电代加工芯片么?问题还是出在光刻机这里,由于台积电很多芯片生产技术是美国的,所以美国可以通过专利技术限制台积电为华为代工芯片。

不过上海微电子出产的这台28nm光刻机将打破这一现状,它也属于DUV光刻机的范畴。对于我国来说,光刻机技术的进步,将有利于国产芯片自主化的发展。再也不怕美国人在芯片上卡中国企业的脖子。

一旦成功实现28nm光刻机组织下线,国内就可以打造完全自主化的芯片生产线。目前14nm和28nm的芯片可以满足国内90%的需求。并且中芯国际已经宣布突破了7nm芯片的工艺,有望在6月份实现量产。

最主要的是,中芯国际的7nm芯片工艺也是通过DUV光刻机实现的。而此时上海微电子又宣布成功突破了28nm的光刻机,并且在不久之后交付一台给中芯国际,这无疑是国产芯片打了一个漂亮的翻身仗。

为什么中国生产不了光刻机

就在网友为此欢呼的时候,我国科学家吴汉民院士却泼了网友一头冷水,他表示最高端的EUV光刻机一台得1亿多美元,需要英美日德等多个国家的高端技术协作才能生产出来。里面大概有10万多零部件,全世界超过5000家供应商,荷兰的ASML也是属于组装的高端光刻机。中国要独力制造EUV光刻机的话,不太现实,也需要参与到全球化当中。

吴院士的话意思很明显,主要有两个点。第一层就是说虽然中国制造出了DUV光刻机,但这离最顶尖的光刻机还有差距,而且这些技术被欧美等发达国家垄断掌握,我们还需要进步。那么荷兰ASML的EUV光刻机,有什么厉害之处呢?

为什么中国生产不了光刻机

EUV光刻技术的研发最早源于1996年,被国际半导体技术发展路线图确定为下一代的首先光刻技术。之后,美国、欧洲和日韩纷纷参与角逐。

其中美国参与EUV光刻技术的研究机构超过50家,欧洲下的血本最大,超过35个国家、110个研发机构参与到该技术研究。日韩也是举国之力来参与其中。经过20多年的激烈竞争,最终胜出的是美国,掌握了绝大部分的技术专利。这也是EUV光刻机出口需要美国点头的原因,而美国禁止ASML出口EUV光刻机给中国。

为什么中国生产不了光刻机

所以吴院士说ASML是一个高端设备的组装公司,它通过参与系统集成进入到EUV光刻机产业链,它集结了美国的光源技术、德国的光学系统、英国的真空技术和日本的材料。

从现在芯片生产的工艺来说,DUV光刻机通过多层套刻工艺,只能生产到7纳米工艺的芯片。而EUV光刻机才能实现更高端的5纳米工艺芯片,甚至是2纳米工艺芯片的生产。

经过数十年的发展,集成电路越来越复杂,元器件越来越微小,所以对光刻机的精密程度要求也越来越高。简而言之,谁掌握了光刻机最先进的技术,谁就在芯片产业拥有话语权。所以美国通过光刻机技术卡住了我国芯片的脖子。

吴院士的第二层意思是说中国独立制造EUV光刻机很困难,而且也没有必要,也需要参与到全球化当中。听到这里,可能很多网友会气愤了,外国都能制造,我国为什么不可以?现在人家正在卡我们脖子。

为什么中国生产不了光刻机

其实网友们都有一个误区,这个外国可不是一个国家。我们中国人再怎么努力和争气也不可能和整个世界对抗吧?这是在给自己找气受,也是在为难我国的科研人员。而且美国也没有办法独立完成EUV光刻机的制造,它只是掌握了部分核心技术。

吴院士的意思也很明确,我们中国需要尖端光刻机,但是没有必要闭门造车。我们可以掌握核心技术,然后参与到全球化当中去。荷兰的ASML公司有5000家供应商,这5000家供应商也可以成为中国企业的供应商,美国再厉害也不可能限制这5000家企业。

总而言之,我国是世界第一大芯片消费市场,上海微电子的光刻机技术突破能够降低芯片的成本,对于国内企业来说是一件好事。但是发展高端的光刻机,我们的任务还很艰巨!

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