国产光刻机最新突破进展 国产光刻机上市公司

来源:bianji2 时间:2021-12-03 14:42 阅读

关于国产光刻机最新突破进展这个问题,今天让我们具体的描述一下国产光刻机最新突破进展的详细解释。

2020年对于中国半导体行业来说,是砥砺前行的一年,因为美国一纸禁令,必须使用EUV光刻机的华为5纳米芯片,麒麟9000无法生产,让很多国人既气愤又无奈。

可以说,每一位关心中国科技发展的小伙伴都在问,到底什么时候,我们国产光刻机能够问世,到底什么时候,我们自己的光刻机能给华为代加工高端芯片?今天我们就来聊聊这个话题,做一个关于国产光刻机的小盘点,来梳理一下国产光刻机的发展现状。

今天我们先以问答的形式来进行,具体如下:

1、我们有国产光刻机吗?

答案是有,生产企业是上海微电子。

2、国产光刻机现在能做到什么程度?

我们在上海微电子官网可以看到,2018年3月,上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说,我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。

3、国产28纳米光刻机是什么情况?

之前有网友爆料,上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA800/10W光刻机,这是一台国产浸没式 DUV 光刻机,可实现单次曝光28nm节点。所以网络里一直流传着这个说法。不过对于此消息,有人说是真的,有人说是假的。让人很是迷糊。

国产光刻机最新突破进展

为此,我特意进行了求证。那么求证的过程中,我发现这样一条信息,或许可以说明一些情况。

它是一篇来自江苏省开发区协会曾经发布的文章,标题为:科益虹源集成电路光刻光源制造及服务基地项目开工。文章里提到,到2020年产品将与整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作。

也就是说,科益虹源的准分子激光器将会配套到上海微电子的光刻机中,而这台计划中的光刻机可以实现28纳米工艺。

因为发布渠道的属性,我们基本上可以肯定,可以实现28纳米工艺的国产光刻机确有其事,并且原计划是2020年下线。

不过,不知道是什么原因,官网的这篇文章已经被删除。但可以在天眼查里科益虹源的相关页面中看到,系统抓取留存的这条信息。

另外,现在已经进入2021年,是否按照计划完成了28纳米光刻机?我们在上海微电子官网或者其他官方网站都没有查到相关信息。

还有2则报道:

一个是方正证券去年发布的相关信息例显示,国家 02 专项光刻机项目二期拟于 2020 年 12 月验收由上海微电子设计集成的 193nm ArF 浸没式 DUV 光刻机。

二是知名媒体DIGITIMES曾报道,上海微电子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光(DUV)光刻机,该设备可实现28纳米工艺。

所以,基本上可以做实,上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机。只是是否通过验收,到底何时能交付,目前未知。

5、28纳米是什么水平?

28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平,严格来说,这个真的算不上高水平,它的前面还有14、7、5、3、2,甚至是1nm。

但是28纳米是成熟工艺,生产成本低,只要不追求极致性能的情况下,这种制程的芯片,其性能也够用的,用来生产我们日常生活中的电子设备是没有问题的,例如电视、电视盒子、音响、电梯、空调、微波炉、冰箱、汽车等等。

或者你可以这样理解,在小型设备中,需要更低制程的芯片,例如手机,因为空间有限,想要实现更好的性能,芯片就需要更加先进的生产工艺。

另外,根据研究机构IC Insights发布的《2020-2024年全球晶圆产能》报告,预计到2024年,半导体制程格局将出现10nm以下,10-20nm,20nm以上工艺三分天下的格局,各自市场占有率约为1/3,而28nm以上的成熟工艺在未来四年的市场份额没有明显变化,仍然有很大的市场。

所以无需盲目地追求制程工艺。

最后,我必须要告诉大家,我的国产光刻机是最牛的。为什么?因为全世界,只有中国,能够做到纯国产的光刻机。即便是荷兰ASML,这个光刻机巨头,其产品也是集合多国精尖技术于一身打造的。一旦有一天,因为种种原因,荷兰被限制某些技术,那么其光刻机就很有可能会停产。因为各项技术都是全球最顶尖的,可替代性微乎其微。即便找到替代技术,可能也会严重影响光刻机的生产以及后续芯片制造环节。

国产光刻机最新突破进展

而反观我们国产光刻机,全部技术都是自主研发,它由上海微电子负责总体集成:

  1. 超精密光栅shan系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所
  2. 物镜组来自北京国望光学
  3. 光源来自科益虹源
  4. 浸液系统来自浙江启尔机电
  5. 双工件台来自华卓精科

所以即便是世界出现问题,例如当下的疫情,甚至发生战争,对我们都不会有任何影响。当然,这需要我们具备完整的国产半导体产业链。

总之,国产光刻机在路上,距离世界顶尖技术的差距虽然很远,但我们已经在奋力追赶,随着我国科学技术人才不断井喷,国家战略方向的扶持,企业研发力度的不断加大以及全国人民的大力支持,胜利之日绝对不会遥远。未来,全球半导体的格局,将会发生变化,迁移到中国也是不无可能,因为这里既有光刻机产品,也有光刻机市场,因为中国是世界半导体需求量最大的需求方,无人能够替代。

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